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镓离子初级飞行时间二次离子质谱仪对金属和无机化合物的碎片模式。

Ga+ primary ion ToF-SIMS fragment pattern of metals and inorganic compounds.

作者信息

Li Zhanping, Hirokawa Kichinosuke

机构信息

ULVAC-PHI Inc., 370 Enzo, Chigasaki 253-0084, Japan.

出版信息

Anal Sci. 2003 Sep;19(9):1231-8. doi: 10.2116/analsci.19.1231.

DOI:10.2116/analsci.19.1231
PMID:14516072
Abstract

The appearance regularity of the Ga+ primary ion ToF-SIMS fragment pattern of metals and inorganic compounds is discussed. For inorganic compounds formulated like M-A, where the valence of the cation M is +n, that of the anion A is -p; also, the chemical composition of the ToF-SIMS fragment is MxAy, the rule nx > or = (py + 1) is satisfied for positive ion fragments and nx < or = (py + 1) for negative ones. For example, for an oxide fragment of chemical composition MxOy (valence of M is +n), the chemical composition of the fragment appears obeying the rule nx > or = (2y + 1) for positive ions and nx < or = (2y + 1) for negative ones, respectively. The regularity of ToF-SIMS fragment patterns of sulfides, nitrates, sulfates etc. is discussed. Further, when the Ga+ primary ion ToF-SIMS fragment patterns of metals are observed, it can be inferred that the overlapped particle emission occurs from metal surfaces through alloying and/or clustering of Ga with metal on surfaces.

摘要

讨论了Ga+ 初级离子飞行时间二次离子质谱(ToF-SIMS)中金属和无机化合物碎片模式的出现规律。对于化学式为M-A的无机化合物,其中阳离子M的化合价为 +n,阴离子A的化合价为 -p;此外,ToF-SIMS碎片的化学组成为MxAy,对于正离子碎片满足nx ≥ (py + 1)规则,对于负离子碎片满足nx ≤ (py + 1)规则。例如,对于化学式为MxOy(M的化合价为 +n)的氧化物碎片,正离子碎片的化学组成出现时遵循nx ≥ (2y + 1)规则,负离子碎片的化学组成出现时遵循nx ≤ (2y + 1)规则。讨论了硫化物、硝酸盐、硫酸盐等的ToF-SIMS碎片模式规律。此外,当观察金属的Ga+ 初级离子ToF-SIMS碎片模式时,可以推断出通过Ga与表面金属的合金化和/或聚集,在金属表面发生了重叠粒子发射。

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