Suppr超能文献

光折变晶体中参量全息散射图案强度的计算。

Computation of the intensities of parametric holographic scattering patterns in photorefractive crystals.

作者信息

Schwalenberg Simon

机构信息

Fachbereich Physik, Universität Osnabrück, Barbarastrasse 7, 49069 Osnabrück, Germany.

出版信息

Phys Rev E Stat Nonlin Soft Matter Phys. 2005 Jun;71(6 Pt 2):066608. doi: 10.1103/PhysRevE.71.066608. Epub 2005 Jun 21.

Abstract

The present work represents a first attempt to perform computations of output intensity distributions for different parametric holographic scattering patterns. Based on the model for parametric four-wave mixing processes in photorefractive crystals and taking into account realistic material properties, we present computed images of selected scattering patterns. We compare these calculated light distributions to the corresponding experimental observations. Our analysis is especially devoted to dark scattering patterns as they make high demands on the underlying model.

摘要

目前的工作是首次尝试对不同参数全息散射图案的输出强度分布进行计算。基于光折变晶体中参量四波混频过程的模型,并考虑实际的材料特性,我们给出了选定散射图案的计算图像。我们将这些计算出的光分布与相应的实验观测结果进行比较。我们的分析特别关注暗散射图案,因为它们对基础模型有很高的要求。

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