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一种生产高度光滑的超薄氧化锆薄膜并进行纳米级图案化的新方法。

A new route to the production and nanoscale patterning of highly smooth, ultrathin zirconium oxide films.

作者信息

Watson Scott M D, Coleman Karl S, Chakraborty Amit K

机构信息

Department of Chemistry, Durham University, South Road, DH1 3LE, UK.

出版信息

ACS Nano. 2008 Apr;2(4):643-50. doi: 10.1021/nn700138q.

DOI:10.1021/nn700138q
PMID:19206594
Abstract

Metal-stabilized bilayers, prepared by the self-assembly of octadecyltrichorosilane on an oxidized silicon surface followed by the Langmuir-Blodgett deposition of a monolayer of octadecylphosphonic acid, have been used to generate 1.6 nanometer thick, highly uniform, zirconium oxide films following annealing. Patterning of the thin films on the nanometre scale was achieved using nanodisplacement methodology, by careful control of an atomic force microscope (AFM) probe, which allowed the selective removal of the upper leaflet of the bilayer.

摘要

通过在氧化硅表面自组装十八烷基三氯硅烷,随后进行十八烷基膦酸单分子层的朗缪尔-布洛杰特沉积制备的金属稳定双层膜,在退火后已被用于生成1.6纳米厚、高度均匀的氧化锆薄膜。使用纳米位移方法,通过仔细控制原子力显微镜(AFM)探针,实现了纳米尺度上薄膜的图案化,这使得能够选择性地去除双层膜的上层薄片。

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