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通过超分子嵌段共聚物光刻体系的正交降解制备多种纳米级模板。

Multiple nanoscale templates by orthogonal degradation of a supramolecular block copolymer lithographic system.

机构信息

Materials Research Laboratory, University of California, Santa Barbara, California 93106, USA.

出版信息

ACS Nano. 2010 Jan 26;4(1):285-91. doi: 10.1021/nn901330q.

DOI:10.1021/nn901330q
PMID:20000842
Abstract

An orthogonal approach to the creation of multiple nanoscale templates from a single supramolecular block copolymer system is presented. The enabling feature of this strategy is the design of block copolymers that incorporate independent degradation chemistries which permits each block copolymer to be addressed individually and sequentially. By blending a block copolymer containing H-bond donor groups and a UV-degradable domain with the complementary copolymer containing H-bond acceptor groups and an acid-cleavable segment, diverse and tunable nanoporous thin films with different pore sizes and array patterns can be obtained. This robust strategy demonstrates the potential of combining orthogonal chemistry with the inherent tunability of supramolecular systems.

摘要

本文提出了一种从单一超分子嵌段共聚物体系中创建多个纳米级模板的正交方法。该策略的一个关键特点是设计了包含独立降解化学性质的嵌段共聚物,这使得每个嵌段共聚物都可以单独且依次处理。通过将含有氢键给体基团和可光降解基团的嵌段共聚物与含有氢键受体基团和可酸解片段的互补嵌段共聚物共混,可以获得具有不同孔径和阵列图案的多样化且可调的纳米多孔薄膜。这种稳健的策略展示了将正交化学与超分子体系的固有可调性相结合的潜力。

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