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High-aspect-ratio imageable top-surface lithography using UV-assisted inkless contact printing.

作者信息

Choi Se-Jin, Park Jeong-Yong

机构信息

Minuta Tech. Co., Ltd. R&D Center Seongnam, Gyeonggi-Do 513-15, Korea.

出版信息

Small. 2010 Feb 5;6(3):371-5. doi: 10.1002/smll.200902073.

DOI:10.1002/smll.200902073
PMID:20033932
Abstract
摘要

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1
High-aspect-ratio imageable top-surface lithography using UV-assisted inkless contact printing.使用紫外线辅助无墨接触印刷的高纵横比可成像顶面光刻技术。
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