四曝光全息莫尔干涉术与散斑图案干涉术：比较 - Suppr

Four-exposure hologram moiré interferometry and speckle-pattern interferometry: a comparison.

Hariharan P, Hegedus Z S

Appl Opt. 1975 Jan 1;14(1):22-3. doi: 10.1364/AO.14.000022.

Abstract

摘要

Appl Opt. 1975 Jan 1;14(1):22-3. doi: 10.1364/AO.14.000022.

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