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Antireflection behavior of multidimensional nanostructures patterned using a conformable elastomeric phase mask in a single exposure step.

作者信息

Park Junyong, Yoon Sanghoon, Kang Kisuk, Jeon Seokwoo

机构信息

Department of Materials Science and Engineering, Korea Advanced Institute of Science and Technology, Daejeon, Republic of Korea.

出版信息

Small. 2010 Sep 20;6(18):1981-5. doi: 10.1002/smll.201000275.

DOI:10.1002/smll.201000275
PMID:20715070
Abstract
摘要

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1
Antireflection behavior of multidimensional nanostructures patterned using a conformable elastomeric phase mask in a single exposure step.在单次曝光步骤中使用可贴合弹性体相位掩模图案化的多维纳米结构的抗反射行为。
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