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硫酸盐和磷酸盐对质粒 DNA 在硅和氧化铝涂层表面沉积的影响。

Influence of sulfate and phosphate on the deposition of plasmid DNA on silica and alumina-coated surfaces.

机构信息

The Key Laboratory of Water and Sediment Sciences, Ministry of Education; College of Environmental Sciences and Engineering, Peking University, Beijing 100871, PR China.

Department of Mineral Resources and Energy Engineering, Chonbuk National University, Jeonju, Jeonbuk 561-756, Republic of Korea.

出版信息

Colloids Surf B Biointerfaces. 2014 Jun 1;118:83-9. doi: 10.1016/j.colsurfb.2014.03.039. Epub 2014 Mar 31.

DOI:10.1016/j.colsurfb.2014.03.039
PMID:24727552
Abstract

The influence of sulfate and phosphate on the deposition kinetics of plasmid DNA on solid surfaces was examined at a constant 300mM ionic strength in both NaCl-Na2SO4 and NaCl-NaH2PO4-Na2HPO4 mixing solutions with varied sulfate and phosphate concentrations at pH 6.0 by utilizing a quartz crystal microbalance with dissipation (QCM-D). Two representative solid surfaces, both silica and alumina-coated surfaces, were concerned in this study. To better understand the effects of sulfate and phosphate on plasmid DNA deposition, QCM-D data were complemented by diffusion coefficients and zeta potentials of DNA as a function of examined solution conditions. The presence of sulfate and phosphate in solutions decreased the deposition efficiencies of plasmid DNA on both silica and alumina-coated surfaces. Moreover, the deposition efficiencies decreased with increasing concentrations of sulfate/phosphate. With sulfate/phosphate ions present in solutions, the deposition kinetics of plasmid DNA on both silica and alumina-coated surfaces were mainly controlled by classic Derjaguin-Landau-Verwey-Overbeek (DLVO) interactions.

摘要

在 pH 值为 6.0 的条件下,在 NaCl-Na2SO4 和 NaCl-NaH2PO4-Na2HPO4 混合溶液中,通过利用石英晶体微天平(QCM-D),在恒定的 300mM 离子强度下,研究了硫酸盐和磷酸盐对质粒 DNA 在固体表面上沉积动力学的影响。在这项研究中,关注了两种代表性的固体表面,即二氧化硅和氧化铝涂层表面。为了更好地理解硫酸盐和磷酸盐对质粒 DNA 沉积的影响,补充了 QCM-D 数据,包括 DNA 的扩散系数和zeta 电位随所研究溶液条件的变化。溶液中硫酸盐和磷酸盐的存在降低了质粒 DNA 在二氧化硅和氧化铝涂层表面上的沉积效率。此外,沉积效率随着硫酸盐/磷酸盐浓度的增加而降低。在溶液中存在硫酸盐/磷酸盐离子的情况下,质粒 DNA 在二氧化硅和氧化铝涂层表面上的沉积动力学主要由经典的德热加伦-朗道-弗韦尔(DLVO)相互作用控制。

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