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经导管主动脉瓣植入术后出现室间隔缺损和左心室流出道梗阻。

Ventricular septal defect and left ventricular outflow tract obstruction after transcatheter aortic valve implantation.

机构信息

San Raffaele Hospital, Milan.

Ospedale Maggiore, Crema, Italy.

出版信息

J Cardiovasc Med (Hagerstown). 2018 Apr;19(4):181-182. doi: 10.2459/JCM.0000000000000625.

Abstract

: Ventricular septal defect (VSD) has been reported as a rare complication after transcatheter aortic valve implantation (TAVI), presenting with signs of heart failure. Furthermore, left ventricular outflow tract obstruction (LVOTO) may worsen after TAVI, especially in cases of severe left ventricular hypertrophy and small cavity. However, the simultaneous appearance of VSD and LVOT after TAVI has not been reported before. We report a case of combined VSD and LVOTO after TAVI.

摘要

室间隔缺损(VSD)是经导管主动脉瓣植入术(TAVI)后的一种罕见并发症,表现为心力衰竭的征象。此外,TAVI 后可能会出现左心室流出道梗阻(LVOTO)加重的情况,尤其是在严重左心室肥厚和小腔室的情况下。然而,TAVI 后同时出现 VSD 和 LVOT 的情况以前尚未报道过。我们报告了一例 TAVI 后并发 VSD 和 LVOTO 的病例。

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