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沉积高度对火焰气相沉积过程中氧化钨薄膜纳米结构的影响

Effect of Deposition Height on Nanostructure of Tungsten Oxide Thin Films in Flame Vapor Deposition Process.

作者信息

Ding Jin-Rui, Yoon Sang-Hyeok, Kim Kyo-Seon

机构信息

Department of Chemical Engineering, Kangwon National University, Chuncheon, Kangwon-Do, 200-701, Korea.

出版信息

J Nanosci Nanotechnol. 2018 Mar 1;18(3):2231-2234. doi: 10.1166/jnn.2018.14983.

DOI:10.1166/jnn.2018.14983
PMID:29448752
Abstract

Vertically aligned nanostructured tungsten oxide thin films have been found useful in many applications due to its intrinsic photonic and electronic properties. In this study, we directly prepared vertically aligned nanostructures including nanowires and nanotubes grown directly on FTO-coated glass by a newly designed flame vapor deposition system. The deposition height was found to be an important parameter for the development of thin film morphology. The evolution of nanowires and nanotubes with time was investigated. Based on our observation, the feasible growth mechanisms of distinct nanostructures were proposed.

摘要

垂直排列的纳米结构氧化钨薄膜因其固有的光子和电子特性而在许多应用中很有用。在本研究中,我们通过新设计的火焰气相沉积系统,直接在涂有FTO的玻璃上制备了包括纳米线和纳米管在内的垂直排列纳米结构。发现沉积高度是薄膜形态发展的一个重要参数。研究了纳米线和纳米管随时间的演变。基于我们的观察,提出了不同纳米结构的可行生长机制。

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