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由于成分应力导致应变合金薄膜的不稳定性增强。

Enhanced instability of strained alloy films due to compositional stresses.

作者信息

Spencer BJ, Voorhees PW, Tersoff J

机构信息

Department of Mathematics, University at Buffalo, Buffalo, New York 14214-3093, USA.

出版信息

Phys Rev Lett. 2000 Mar 13;84(11):2449-52. doi: 10.1103/PhysRevLett.84.2449.

DOI:10.1103/PhysRevLett.84.2449
PMID:11018907
Abstract

A single-component strained film is known to be unstable to the stress-driven morphological instability. Here, we determine how the instability is modified in an alloy film by considering the effect of compositional stresses due to an atomic size difference. We find that the coupling of composition to stress always makes the film more unstable to the formation of stress-driven surface undulations. The destabilization is greatest over a range of intermediate deposition rates.

摘要

已知单组分应变薄膜对应力驱动的形态不稳定性不稳定。在此,我们通过考虑由于原子尺寸差异引起的成分应力的影响,来确定合金薄膜中的不稳定性是如何被改变的。我们发现成分与应力的耦合总是使薄膜对应力驱动的表面起伏的形成更加不稳定。在一系列中间沉积速率范围内,失稳最为显著。

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