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自组装三维大孔光子晶体中点缺陷的精确制造。

Precise fabrication of point defects in self-assembled three-dimensional macroporous photonic crystals.

作者信息

Xie Rongguo, Sekiguchi Takashi, Li Dongsheng, Yang Deren, Jiang Minhua

机构信息

Nanomaterials Laboratory, National Institute for Materials Science, Tsukuba 305-0047, Japan.

出版信息

J Phys Chem B. 2006 Jan 26;110(3):1107-10. doi: 10.1021/jp056153w.

DOI:10.1021/jp056153w
PMID:16471650
Abstract

We demonstrate a new and simple method of precisely fabricating defects in three-dimensional (3D) CdS macroporous photonic crystals (PCs) with a variable pressure scanning electron microscope. Well-defined point defects, not only vacancies but also an impurity (a reduced-size sphere), were directly fabricated by electron-beam irradiation under a gas atmosphere. This provides a convenient and straightforward method of introducing various designed defects into 3D PCs for photonic-band-gap-based applications.

摘要

我们展示了一种利用可变压力扫描电子显微镜精确制造三维(3D)硫化镉大孔光子晶体(PCs)缺陷的全新简单方法。在气体气氛下通过电子束辐照直接制造出了定义明确的点缺陷,不仅有空位,还有杂质(尺寸减小的球体)。这为基于光子带隙的应用将各种设计缺陷引入3D光子晶体提供了一种便捷直接的方法。

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引用本文的文献

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