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Sub-5-nm gaps prepared by on-wire lithography: correlating gap size with electrical transport.

作者信息

Qin Lidong, Jang Jae-Won, Huang Ling, Mirkin Chad A

机构信息

Department of Chemistry and International Institute for Nanotechnology, Northwestern University, Evanston, IL 60208-3113, USA.

出版信息

Small. 2007 Jan;3(1):86-90. doi: 10.1002/smll.200600386.

DOI:10.1002/smll.200600386
PMID:17294475
Abstract
摘要

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