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A direct-write single-step positive etch resist for dip-pen nanolithography.

作者信息

Wei Joseph H, Ginger David S

机构信息

Department of Chemistry, University of Washington, Box 351700, Seattle, WA 98195-1700, USA.

出版信息

Small. 2007 Dec;3(12):2034-7. doi: 10.1002/smll.200700617.

DOI:10.1002/smll.200700617
PMID:18058982
Abstract
摘要

相似文献

1
A direct-write single-step positive etch resist for dip-pen nanolithography.
Small. 2007 Dec;3(12):2034-7. doi: 10.1002/smll.200700617.
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