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Surface patterning: Silicon falls into line.

作者信息

Bent Stacey F

出版信息

Nat Nanotechnol. 2008 Apr;3(4):185-6. doi: 10.1038/nnano.2008.79.

DOI:10.1038/nnano.2008.79
PMID:18654496
Abstract
摘要

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Surface patterning: Silicon falls into line.表面图案化：硅步入正轨。
Nat Nanotechnol. 2008 Apr;3(4):185-6. doi: 10.1038/nnano.2008.79.
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