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采用紫外光/臭氧图形化技术制备的纳米孔片。

Holey nanosheets by patterning with UV/ozone.

机构信息

Physik supramolekularer Systeme, Universität Bielefeld, Universitätsstrasse 25, 33615 Bielefeld.

出版信息

Phys Chem Chem Phys. 2010 May 7;12(17):4324-8. doi: 10.1039/b923863h. Epub 2010 Feb 17.

DOI:10.1039/b923863h
PMID:20407702
Abstract

Self-assembled monolayers (SAMs) of 1,1'-biphenyl-4-thiol are patterned by using UV/ozone treatment through a shadow mask. After subsequent irradiation with low-energy electrons, the SAM is cross-linked to form a two-dimensional, holey nanosheet with a thickness of approximately 1 nm. This nanosheet is mechanically stable and can be released from the original gold substrate and transferred to new substrates, including transmission electron microscopy (TEM) grids. The process is monitored by complementary microscopic techniques as well as X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).

摘要

通过使用紫外光/臭氧处理和掩模,将 4-巯基联苯的自组装单分子层(SAMs)进行图案化。随后用低能电子进行辐照,SAM 交联形成二维、有孔纳米片,厚度约为 1nm。这种纳米片具有机械稳定性,可以从原始的金基底释放出来并转移到新的基底上,包括透射电子显微镜(TEM)网格。该过程通过互补的显微镜技术以及 X 射线光电子能谱(XPS)进行监测。

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