Suppr超能文献

高质量因子氮化硅纳米梁腔的制作与特性分析。

Fabrication and characterization of high-quality-factor silicon nitride nanobeam cavities.

机构信息

School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, Cambridge, Massachusetts 02138, USA.

出版信息

Opt Lett. 2011 Feb 1;36(3):421-3. doi: 10.1364/OL.36.000421.

Abstract

We present the fabrication and characterization of high-quality-factor (Q) Si3N4 photonic crystal nanobeam cavities at visible wavelengths for coupling to nitrogen-vacancy centers in a cavity QED system. Confocal microphotoluminescence analysis of the nanobeam cavities demonstrates quality factors up to Q ~ 55,000, which are limited by the resolution of our grating spectrometer. This is a 1-order-of-magnitude improvement over previous SiNx cavities at this important wavelength range. We also demonstrate coarse tuning of cavity resonances across 600-700 nm by lithographically scaling the size of fabricated devices.

摘要

我们展示了高质量因子(Q)的 Si3N4 光子晶体纳米梁腔的制造和特性,该腔可在可见光波长下与腔 QED 系统中的氮空位中心耦合。纳米梁腔的共焦微荧光分析表明,其 Q 值高达 Q~55,000,这受到我们光栅光谱仪分辨率的限制。与以前在这个重要波长范围内的 SiNx 腔相比,这是一个数量级的改进。我们还通过光刻缩小制造器件的尺寸,演示了在 600-700nm 范围内的腔共振的粗调谐。

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