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利用全反射 X 射线衍射对薄膜进行深度选择性结构分析。

Depth-selective structural analysis of thin films using total-external-reflection x-ray diffraction.

机构信息

Nichia Corporation, Yokohama Technology Center, 13-19-3 Moriya, Kanagawa, Yokohama, Kanagawa 221-0022, Japan.

出版信息

J Phys Condens Matter. 2010 Dec 1;22(47):474009. doi: 10.1088/0953-8984/22/47/474009. Epub 2010 Nov 15.

Abstract

Total-external-reflection (TER) x-ray diffraction is the depth-sensitive technique for evaluating layered structures, including epitaxial heterostructures, ion-doped bulk crystals and several quantum-well structures. This technique can control the depth of observation by changing both incident and exit angles of x-rays from the surface. In this review, the principle of the TER technique and measurement apparatus are briefly described, and applications of layered-semiconductor samples evaluated using the TER technique are introduced.

摘要

全反射 X 射线衍射是一种用于评估层状结构的深度敏感技术,包括外延异质结构、离子掺杂体块晶体和几种量子阱结构。该技术可以通过改变从表面出射的 X 射线的入射角和出射角来控制观测深度。在这篇综述中,简要描述了 TER 技术的原理和测量设备,并介绍了使用 TER 技术评估的层状半导体样品的应用。

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