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氧化钨作为栅介质的高透明和温度稳定的氧化锌基薄膜晶体管。

Tungsten oxide as a gate dielectric for highly transparent and temperature-stable zinc-oxide-based thin-film transistors.

机构信息

Institut für Experimentelle Physik II, Halbleiterphysik, Universität Leipzig, Germany.

出版信息

Adv Mater. 2011 Dec 1;23(45):5383-6. doi: 10.1002/adma.201103087. Epub 2011 Oct 14.

DOI:10.1002/adma.201103087
PMID:21997566
Abstract

Tungsten oxide is currently used as gate insulator in pH-sensing ion-sensitive field-effect transistors (ISFETs) and in electrochromic devices. Its great potential as a high-κ dielectric with high transparency and temperature stability is reported. Owing to the low gate voltage sweep necessary to turn the transistor on and off, a possible application could be as a low-voltage pixel driver in active-matrix displays in harsh environments.

摘要

氧化钨目前被用作 pH 感应离子敏感场效应晶体管(ISFET)和电致变色器件的栅极绝缘体。据报道,它具有作为高介电常数材料的巨大潜力,具有高透明度和温度稳定性。由于晶体管导通和关断所需的栅极电压扫描较低,因此它可能被用作恶劣环境下有源矩阵显示器中的低压像素驱动器。

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