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通过不同还原方法,利用二氧化硅牺牲层辅助将金纳米颗粒共嵌入到介孔氧化钛薄膜的面内。

Silica sacrificial layer-assisted in-plane incorporation of Au nanoparticles into mesoporous titania thin films through different reduction methods.

机构信息

Department of Chemical Engineering, National Taiwan University, No. 1, Sec. 4, Roosevelt Road, Taipei 10617, Taiwan.

出版信息

Dalton Trans. 2013 Jun 28;42(24):8704-8. doi: 10.1039/c3dt50236h. Epub 2013 Apr 30.

DOI:10.1039/c3dt50236h
PMID:23633080
Abstract

This study focuses on the incorporation of gold nanoparticles (Au NPs) into our previously synthesized mesoporous titania thin films consisting of titania nanopillars and inverse mesospace (C. W. Wu, T. Ohsuna, M. Kuwabara and K. Kuroda, J. Am. Chem. Soc., 2006, 128, 4544-4545, denoted as MTTFs). Recently, mesoporous titania materials doped with noble metals such as gold have attracted considerable attention because noble metals can enhance the efficiency of mesoporous titania-based devices. In this research, we attempted to use four different reduction methods (i.e., thermal treatment, photo irradiation, liquid immersion, and vapor contacting) to introduce gold nanoparticles (Au NPs) into MTTFs. The synthesized Au@MTTFs were characterized by scanning electron microscopy (SEM) and transmission electron microscopy (TEM). We further systematically investigated the formation mechanism of gold nanoparticles on the external and internal surfaces of the MTTFs. With the assistance of a silica sacrificial layer, well-dispersed Au NPs with sizes of 4.1 nm were obtained inside the MTTF by photo irradiation. The synthesized Au@MTTF materials show great potential in various photo-electronic and photo-catalytic applications.

摘要

本研究将金纳米粒子 (Au NPs) 掺入我们之前合成的介孔二氧化钛薄膜中,该薄膜由二氧化钛纳米柱和反介孔组成(C. W. Wu、T. Ohsuna、M. Kuwabara 和 K. Kuroda,J. Am. Chem. Soc.,2006,128,4544-4545,简称 MTTFs)。最近,掺杂贵金属(如金)的介孔二氧化钛材料引起了相当大的关注,因为贵金属可以提高基于介孔二氧化钛的器件的效率。在这项研究中,我们尝试使用四种不同的还原方法(即热处理、光辐照、液体浸渍和蒸气接触)将金纳米粒子(Au NPs)引入 MTTFs。所合成的 Au@MTTFs 通过扫描电子显微镜 (SEM) 和透射电子显微镜 (TEM) 进行了表征。我们进一步系统地研究了金纳米粒子在 MTTFs 内外表面上的形成机制。在二氧化硅牺牲层的辅助下,通过光辐照在 MTTF 内部获得了尺寸为 4.1nm 的分散良好的 Au NPs。所合成的 Au@MTTF 材料在各种光电和光催化应用中具有很大的潜力。

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