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用于纳米光刻的基于莫尔条纹信号的对准误差传感

Misalignment sensing with a moiré beat signal for nanolithography.

作者信息

Wang Nan, Jiang Wei, Zhang Yu

出版信息

Opt Lett. 2020 Apr 1;45(7):1762-1765. doi: 10.1364/OL.383408.

DOI:10.1364/OL.383408
PMID:32235993
Abstract

Our group proposes an improved misalignment measurement scheme using the moiré beat signal. Compared with the coarse-fine moiré-based alignment methods, this scheme could complete the nanometer-scale alignment within a centimeter-scale scope in one step. Moreover, it could also fundamentally eliminate the influence from the field of view of the observation lens. These merits make it suitable for the high-precision large-scope misalignment sensing in the proximity, x-ray, and nanoimprint lithographies. The experimental results are given to verify the feasibility and rationality.

摘要

我们的团队提出了一种利用莫尔条纹拍频信号改进的对准测量方案。与基于粗-精莫尔条纹的对准方法相比,该方案能够在厘米级范围内一步完成纳米级对准。此外,它还能从根本上消除观察透镜视场的影响。这些优点使其适用于接近光刻、X射线光刻和纳米压印光刻中的高精度大尺寸对准传感。给出了实验结果以验证其可行性和合理性。

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引用本文的文献

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