Suppr超能文献

HfO和SiO薄膜中激光诱导损伤所涉及的电子激发动力学。

Dynamics of electronic excitations involved in laser-induced damage in HfO and SiO films.

作者信息

Kafka K R P, Hoffman B N, Kozlov A A, Demos S G

出版信息

Opt Lett. 2021 Apr 1;46(7):1684-1687. doi: 10.1364/OL.421962.

Abstract

The dynamics of electron excitations associated with the initiation of laser-induced damage in hafnia and silica monolayer films are investigated using time-resolved damage testing involving a pair of 0.7 ps pulses with adjustable delay and laser pulse fluences. Results in hafnia indicate that the relaxation profile depends on the pump-pulse fluence (initial excitation), and as a result, it exhibits an effective lifetime that is variable. Analogous experiments in silica form two different types of damage morphologies that are observed on different ranges of delay times.

摘要

利用时间分辨损伤测试对氧化铪和二氧化硅单层薄膜中与激光诱导损伤起始相关的电子激发动力学进行了研究,该测试涉及一对具有可调延迟和激光脉冲能量密度的0.7皮秒脉冲。氧化铪中的结果表明,弛豫曲线取决于泵浦脉冲能量密度(初始激发),因此,它表现出可变的有效寿命。在二氧化硅中进行的类似实验形成了两种不同类型的损伤形态,这些形态在不同的延迟时间范围内被观察到。

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