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通过(S)对的氧化还原反应性实现铜在氧化镧锍中的溶剂热和机械化学插层。

Solvothermal and mechanochemical intercalation of Cu into LaOS enabled by the redox reactivity of (S) pairs.

作者信息

Sasaki Shunsuke, Steciuk Gwladys, Guillot-Deudon Catherine, Caldes Maria Teresa, Braems Isabelle, Janod Etienne, Corraze Benoît, Jobic Stéphane, Cario Laurent

机构信息

Université de Nantes, CNRS, Institut des Matériaux Jean Rouxel, IMN, F-44000, Nantes, France.

Institute of Physics ASCR, v.v.i., Na Slovance 1999/2, 18221 Praha 8, Czechia.

出版信息

Dalton Trans. 2021 Sep 21;50(36):12419-12423. doi: 10.1039/d1dt01976g.

DOI:10.1039/d1dt01976g
PMID:34545879
Abstract

Intercalation of Cu into layered polychalcogenide LaOS was demonstrated to be viable both under solvothermal conditions at 200 °C and mechanical ball milling at ambient temperature. This result evidences the soft-chemical nature of metal intercalation into layered polychalcogenides driven by the redox reactivity of anion-anion bonds.

摘要

在200℃的溶剂热条件和室温下的机械球磨条件下,均已证明将铜嵌入层状多硫属化物LaOS是可行的。这一结果证明了由阴离子-阴离子键的氧化还原反应性驱动的金属嵌入层状多硫属化物的软化学性质。

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