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通过聚焦离子束纳米图案化对层状半导体的中红外反射损耗进行超宽带抑制。

Ultrabroadband suppression of mid-infrared reflection losses of a layered semiconductor by nanopatterning with a focused ion beam.

作者信息

Hagner Matthias, Sulzer Philipp, Liehl Andreas, Cimander Moritz, Kempf Hannes, Bitzer Annika, Herter Alexa, Leitenstorfer Alfred

出版信息

Opt Express. 2021 Oct 11;29(21):33632-33641. doi: 10.1364/OE.433703.

DOI:10.1364/OE.433703
PMID:34809172
Abstract

Moth-eye structures are patterned onto gallium selenide surfaces with sub-micrometer precision. In this way, Fresnel reflection losses are suppressed to below one percent within an ultrabroad optical bandwidth from 15 to 65 THz. We tune the geometry by rigorous coupled-wave analysis. Subsequently, ablation with a Ga ion beam serves to write optimized structures in areas covering 30 by 30 μm. The benefits are demonstrated via optical rectification of femtosecond laser pulses under tight focusing, resulting in emission of phase-stable transients in the mid-infrared. We analyze the performance of antireflection coating directly in the time domain by ultrabroadband electro-optic sampling.

摘要

蛾眼结构以亚微米精度图案化在硒化镓表面上。通过这种方式,在15至65太赫兹的超宽光学带宽内,菲涅尔反射损耗被抑制到百分之一以下。我们通过严格耦合波分析来调整几何结构。随后,用镓离子束烧蚀在30×30微米的区域写入优化结构。通过在紧聚焦下对飞秒激光脉冲进行光学整流证明了这些优点,从而产生了中红外波段相位稳定的瞬态发射。我们通过超宽带电光采样直接在时域中分析抗反射涂层的性能。

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引用本文的文献

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