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X-ray Metrology for the Semiconductor Industry Tutorial.

作者信息

Sunday Daniel F, Wu Wen-Li, Barton Scott, Kline R Joseph

机构信息

National Institute of Standards and Technology, Gaithersburg, MD 20899, USA.

SAXS Lab US, Inc, 7 Pomeroy Ln., Unit 3, Amherst, MA 01002, USA.

出版信息

J Res Natl Inst Stand Technol. 2019 Feb 1;124:1-3. doi: 10.6028/jres.124.003. eCollection 2019.

DOI:10.6028/jres.124.003
PMID:34877161
原文链接:https://pmc.ncbi.nlm.nih.gov/articles/PMC7339737/
Abstract
摘要

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