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Correction to "Sub-5 nm Lithography with Single GeV Heavy Ions Using Inorganic Resist".

作者信息

Liu Qing, Zhao Jing, Guo Jinlong, Wu Ruqun, Liu Wenjing, Chen Yiqin, Du Guanghua, Duan Huigao

出版信息

Nano Lett. 2022 Mar 23;22(6):2586-2587. doi: 10.1021/acs.nanolett.2c00588. Epub 2022 Mar 14.

DOI:10.1021/acs.nanolett.2c00588
PMID:35285644
Abstract
摘要

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