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硫酚钠引发的甲基丙烯酸酯与硫（S）的聚合反应：用于光刻的高折射率和高透明度聚合物

Sodium Thiophenolate Initiated Polymerization of Methacrylate with Sulfur (S): High-Refractive-Index and -Transparency Polymers for Lithography.

作者信息

Qian Xiaofei

机构信息

School of Microelectronics, Fudan University, Shanghai 200433, P. R. China.

Fudan Zhangjiang Institute, Shanghai 201203, P. R. China.

出版信息

ACS Omega. 2025 Jan 24;10(4):3953-3959. doi: 10.1021/acsomega.4c09788. eCollection 2025 Feb 4.

DOI:10.1021/acsomega.4c09788
PMID:39926508
原文链接:https://pmc.ncbi.nlm.nih.gov/articles/PMC11800153/
Abstract

A simple and effective strategy for introducing sulfur into a polymethacrylate matrix at room temperature has been developed, allowing for the polymerization of a variety of methacrylate derivatives with sulfur. The resulting S-containing polymers exhibited a high refractive index of up to 1.72 while retaining over 90% transmittance in the visible region. Additionally, when mixed with 3% photo acid generator (PAG) as photoresist, the formulation demonstrated excellent patterning capabilities. Furthermore, the scalable preparation of high-refractive-index polymers (HRIPs) indicates significant potential for fabrication.

摘要

已经开发出一种在室温下将硫引入聚甲基丙烯酸酯基体的简单有效策略，可实现多种甲基丙烯酸酯衍生物与硫的聚合。所得含硫聚合物的折射率高达1.72，同时在可见光区域的透过率保持在90%以上。此外，当作为光刻胶与3%的光酸产生剂（PAG）混合时，该配方表现出优异的图案化能力。此外，高折射率聚合物（HRIP）的可扩展制备表明其在制造方面具有巨大潜力。

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