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用于远红外滤光片的网格制备。

Preparation of grids for far infrared filters.

作者信息

Ulrich R

出版信息

Appl Opt. 1969 Feb 1;8(2):319-22. doi: 10.1364/AO.8.000319.

DOI:10.1364/AO.8.000319
PMID:20072221
Abstract

Capacitive grids and similar structures, to be used as reflectors in far ir interference filters, are prepared from a 1-micro thick copper layer supported by a 2.5-micro thick dielectric film. The desired pattern is obtained by simple photolithographic contact printing of a suitable negative. The essential steps of this preparation and the generation of some relevant patterns are described.

摘要

用作远红外干涉滤光片反射器的电容性栅格及类似结构，是由一层2.5微米厚的介电膜支撑的1微米厚铜层制备而成。通过对合适底片进行简单的光刻接触印刷可获得所需图案。本文描述了该制备方法的基本步骤以及一些相关图案的生成。

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