Suppr超能文献

折射率温度依赖性的干涉测量:应用于熔融石英。

Interferometric measurement of the temperature dependence of an index of refraction: application to fused silica.

作者信息

Dupouy Paul-Edouard, Büchner Matthias, Paquier Philippe, Trénec Gérard, Vigué Jacques

机构信息

Laboratoire Collisions Agrégats Réactivité Institut de Recherche sur les Systèmes Atomiques et Moléculaires Complexes, Université de Toulouse, Université Paul Sabatier and CNRS Unité Mixte de Recherche 5589, F-31062 Toulouse, France.

出版信息

Appl Opt. 2010 Feb 1;49(4):678-82. doi: 10.1364/AO.49.000678.

Abstract

The light reflected by an uncoated Fabry-Perot etalon presents dark rings which give a very sensitive measurement of the variations of the return optical path in the etalon. By measuring the diameters of these rings as a function of the etalon temperature T, we get a sensitive measurement of the derivative dn/dT of the index of refraction n. We have made this experiment with a fused silica etalon and we have achieved a 2% relative uncertainty on dn/dT, comparable to the uncertainty of the best experiments.

摘要

未镀膜的法布里 - 珀罗标准具反射的光呈现出暗环,这些暗环能非常灵敏地测量标准具中返回光路的变化。通过测量这些环的直径随标准具温度T的变化,我们可以灵敏地测量折射率n的导数dn/dT。我们用熔融石英标准具进行了这个实验,并且在dn/dT上实现了2%的相对不确定度,这与最佳实验的不确定度相当。

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