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硅(111)上自催化 GaAs 纳米线的结构相控制。

Structural phase control in self-catalyzed growth of GaAs nanowires on silicon (111).

机构信息

Nano-Science Center, Niels Bohr Institute, University of Copenhagen, Denmark.

出版信息

Nano Lett. 2010 Nov 10;10(11):4475-82. doi: 10.1021/nl102308k. Epub 2010 Oct 8.

Abstract

Au free GaAs nanowires with zinc blende structure, free of twin planes and with remarkable aspect ratios, have been grown on (111) Si substrates by molecular beam epitaxy. Nanowires with diameters down to 20 nm are obtained using a thin native oxide layer on the Si substrates. We discuss how the structural phase distribution along the wire length is controlled by the effective V/III ratio and temperature at the growth interface and explain how to obtain a pure twin plane free zinc blende structure.

摘要

通过分子束外延技术,在(111)Si 衬底上生长出具有闪锌矿结构、无孪晶面且纵横比显著的自由 GaAs 纳米线。使用 Si 衬底上的薄本征氧化层,可以获得直径低至 20nm 的纳米线。我们讨论了沿纳米线长度的结构相分布如何通过生长界面处的有效 V/III 比和温度来控制,并解释了如何获得纯孪晶面自由闪锌矿结构。

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