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具有超小间隙的等离子体纳米结构的直接和精确图案化。

Direct and accurate patterning of plasmonic nanostructures with ultrasmall gaps.

机构信息

College of Information Science and Engineering, Northeastern University, Shenyang 110004, China.

出版信息

Nanoscale. 2013 May 21;5(10):4309-13. doi: 10.1039/c3nr00655g.

DOI:10.1039/c3nr00655g
PMID:23552187
Abstract

We report an improved method to directly and accurately fabricate plasmonic nanostructures with ultrasmall gaps. The fabrication is based on high-resolution focused ion beam milling with closely packed nanoring patterns. With fine and precise adjustment of the ion beam, elegant plasmonic nanostructures with ultrasmall dimensions down to 10 nm are achieved. We also show that the gap dimensions have a strong effect on the optical reflectance and transmittance of the plasmonic nanostructures. Measured results show reasonable agreement with finite-difference time-domain calculations. Our approach could find promising applications in plasmon-assisted sensing and surface-enhanced spectroscopy.

摘要

我们提出了一种改进的方法,可以直接精确地制造具有超小间隙的等离子体纳米结构。该制造方法基于紧密排列的纳米环图案的高分辨率聚焦离子束铣削。通过对离子束的精细精确调整,实现了尺寸小至 10nm 的优雅等离子体纳米结构。我们还表明,间隙尺寸对等离子体纳米结构的光学反射率和透射率有很强的影响。测量结果与有限差分时域计算吻合较好。我们的方法有望在等离子体辅助传感和表面增强光谱学中得到应用。

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