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利用标准互补金属氧化物半导体工艺实现脑成像光电探测器的片上集成。

Towards on-chip integration of brain imaging photodetectors using standard CMOS process.

作者信息

Kamrani Ehsan, Lesage Frederic, Sawan Mohamad

出版信息

Annu Int Conf IEEE Eng Med Biol Soc. 2013;2013:2668-71. doi: 10.1109/EMBC.2013.6610089.

DOI:10.1109/EMBC.2013.6610089
PMID:24110276
Abstract

The main effects of on-chip integration on the performance and efficiency of silicon avalanche photodiode (SiAPD) and photodetector front-end is addressed in this paper based on the simulation and fabrication experiments. Two different silicon APDs are fabricated separately and also integrated with a transimpedance amplifier (TIA) front-end using standard CMOS technology. SiAPDs are designed in p+/n-well structure with guard rings realized in different shapes. The TIA front-end has been designed using distributed-gain concept combined with resistive-feedback and common-gate topology to reach low-noise and high gain-bandwidth product (GBW) characteristics. The integrated SiAPDs show higher signal-to-noise ratio (SNR), sensitivity and detection efficiency comparing to the separate SiAPDs. The integration does not show a significant effect on the gain and preserves the low power consumption. Using APDs with p-well guard-ring is preferred due to the higher observed efficiency after integration.

摘要

本文基于模拟和制造实验,探讨了片上集成对硅雪崩光电二极管(SiAPD)和光电探测器前端性能与效率的主要影响。分别制造了两种不同的硅雪崩光电二极管,并使用标准CMOS技术将其与跨阻放大器(TIA)前端集成。硅雪崩光电二极管采用p+/n阱结构设计,并带有不同形状的保护环。TIA前端采用分布式增益概念结合电阻反馈和共栅拓扑进行设计,以实现低噪声和高增益带宽积(GBW)特性。与单独的硅雪崩光电二极管相比,集成后的硅雪崩光电二极管具有更高的信噪比(SNR)、灵敏度和探测效率。集成对增益没有显著影响,并保持了低功耗。由于集成后观察到的效率更高,因此优先使用带有p阱保护环的雪崩光电二极管。

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