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通过电化学和光化学断裂 N-杂环卡宾-硼基硫化物中的 B-S 键形成 N-杂环卡宾-硼基自由基。

Formation of N-heterocyclic carbene-boryl radicals through electrochemical and photochemical cleavage of the B-S bond in N-heterocyclic carbene-boryl sulfides.

机构信息

Institut de Science des Matériaux de Mulhouse IS2M (UMR CNRS 7361), Université de Haute Alsace , 15 rue Jean Starcky, 68057 Mulhouse Cedex, France.

出版信息

J Am Chem Soc. 2013 Nov 13;135(45):16938-47. doi: 10.1021/ja4066267. Epub 2013 Oct 29.

Abstract

The B-S bond in N-heterocyclic carbene (NHC)-boryl sulfides can be cleaved homolytically to NHC-boryl or NHC-thioboryl and thiyl radicals using light, either directly around 300 nm or with a sensitizer at a longer wavelength (>340 nm). In contrast, the electrochemical reductive cleavage of the B-S bond is difficult. This easy photolytic cleavage makes the NHC-boryl sulfides good type I photopolymerization initiators for the polymerization of acrylates under air.

摘要

N-杂环卡宾(NHC)-硼基硫化物中的 B-S 键可以通过光均裂裂解为 NHC-硼基或 NHC-硫代硼基和硫自由基,无论是直接在 300nm 左右还是使用更长波长的敏化剂 (>340nm)。相比之下,电化学还原裂解 B-S 键则较为困难。这种易于光解的裂解使得 NHC-硼基硫化物成为在空气中聚合丙烯酸酯的良好的 I 型光聚合引发剂。

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