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Area-Selective Atomic Layer Deposition of InO:H Using a μ-Plasma Printer for Local Area Activation.

作者信息

Mameli Alfredo, Kuang Yinghuan, Aghaee Morteza, Ande Chaitanya K, Karasulu Bora, Creatore Mariadriana, Mackus Adriaan J M, Kessels Wilhelmus M M, Roozeboom Fred

机构信息

Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology , PO Box 513, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands.

Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, PO Box 513, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands; Department Thin Film Technology, TNO, High Tech Campus 21, 5656 AE Eindhoven, The Netherlands.

出版信息

Chem Mater. 2017 Feb 14;29(3):921-925. doi: 10.1021/acs.chemmater.6b04469. Epub 2017 Jan 23.

DOI:10.1021/acs.chemmater.6b04469
PMID:28405058
原文链接:https://pmc.ncbi.nlm.nih.gov/articles/PMC5384477/
Abstract
摘要
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