Suppr超能文献

具有氟化离子聚合物掺杂的铜镍氧化物空穴传输层的量子点发光二极管。

Quantum-dot light-emitting diodes with a perfluorinated ionomer-doped copper-nickel oxide hole transporting layer.

机构信息

Department of Information Display and Advanced Display Research Center, Kyung Hee University, 26 Kyungheedae-ro, Dongdaemun-gu, Seoul 02447, Korea.

出版信息

Nanoscale. 2018 Apr 19;10(15):7281-7290. doi: 10.1039/c7nr09671b.

Abstract

Herein, we report all solution-processed green quantum-dot light-emitting diodes (G-QLEDs) by introducing a perfluorinated ionomer (PFI, Nafion 117) into quantum dots (QDs) to improve hole injection. To reduce the energy level mismatch between the hole transporting layer (HTL) and QDs and exciton quenching on the metal-oxide surface, a PFI-mixed copper-doped nickel oxide (Cu-NiO) HTL was introduced for G-QLEDs. Mixing Cu-NiO with a PFI increases the work function and induces phase separation between Cu-NiO and PFI; thus, energy band bending occurs on the surface such that effective hole injection can be possible. The phase-separated PFI molecules on HTL affect the thickness and compactness of G-QDs and make a smooth interface between G-QDs and HTL. The G-QLED with a PFI and Cu-NiO mixture HTL exhibits the maximum current efficiency (CEmax), power efficiency (PEmax), and external quantum efficiency (EQEmax) of 7.3 cd A-1, 2.1 lm W-1, and 2.14%, respectively, which are about 4 times those of the QLED with a Cu-NiO HTL.

摘要

在此,我们通过在量子点 (QDs) 中引入全氟离子聚合物 (PFI,Nafion 117) 来改善空穴注入,从而报告所有溶液处理的绿色量子点发光二极管 (G-QLED)。为了降低空穴传输层 (HTL) 和 QDs 之间的能级不匹配以及金属氧化物表面上的激子猝灭,引入了 PFI 混合铜掺杂氧化镍 (Cu-NiO) HTL 用于 G-QLED。将 Cu-NiO 与 PFI 混合可以提高功函数并诱导 Cu-NiO 和 PFI 之间的相分离; 因此,表面会发生能带弯曲,从而可以实现有效的空穴注入。HTL 上的相分离的 PFI 分子会影响 G-QDs 的厚度和致密性,并使 G-QDs 和 HTL 之间形成平滑的界面。具有 PFI 和 Cu-NiO 混合物 HTL 的 G-QLED 的最大电流效率 (CEmax)、功率效率 (PEmax) 和外量子效率 (EQEmax) 分别为 7.3 cd A-1、2.1 lm W-1 和 2.14%,分别是具有 Cu-NiO HTL 的 QLED 的约 4 倍。

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