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III-V 量子点激光器在高热导率碳化硅上的异质集成。

Heterogeneous integration of a III-V quantum dot laser on high thermal conductivity silicon carbide.

出版信息

Opt Lett. 2023 May 15;48(10):2539-2542. doi: 10.1364/OL.486089.

Abstract

Heat accumulation prevents semiconductor lasers from operating at their full potential. This can be addressed through heterogeneous integration of a III-V laser stack onto non-native substrate materials with high thermal conductivity. Here, we demonstrate III-V quantum dot lasers heterogeneously integrated on silicon carbide (SiC) substrates with high temperature stability. A large T of 221 K with a relatively temperature-insensitive operation occurs near room temperature, while lasing is sustained up to 105°C. The SiC platform presents a unique and ideal candidate for realizing monolithic integration of optoelectronics, quantum, and nonlinear photonics.

摘要

热积累会阻止半导体激光器发挥其全部潜力。通过将 III-V 激光堆叠异质集成到具有高热导率的非本征衬底材料上,可以解决这个问题。在这里,我们展示了在具有高热稳定性的碳化硅(SiC)衬底上异质集成的 III-V 量子点激光器。在室温附近,出现了一个大的 T 值 221 K,具有相对温度不敏感的工作特性,而激光则可以持续到 105°C。SiC 平台为实现光电、量子和非线性光子学的单片集成提供了一个独特而理想的候选方案。

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