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使用短的、表面多孔的牙种植体并同时进行间接上颌窦提升术简化上颌骨后部的管理。

Simplifying management of the posterior maxilla using short, porous-surfaced dental implants and simultaneous indirect sinus elevation.

作者信息

Deporter D, Todescan R, Caudry S

机构信息

University of Toronto, Faculty of Dentistry, 124 Edward Street, Toronto, Ontario, Canada M5G 1G6.

出版信息

Int J Periodontics Restorative Dent. 2000 Oct;20(5):476-85.

Abstract

This article describes the use of short, porous-surfaced root-form dental implants and an indirect, simultaneous, osteotome-mediated sinus elevation procedure to restore the posterior maxilla when as little as 3 mm of bone remain below the sinus floor. Results with 16 patients who are part of an ongoing prospective clinical trial using the Endopore implant show 100% success (using established criteria) with a mean implant length of 6.9 mm and a mean functional time of 11.1 months. This treatment approach greatly simplifies the management of the posterior maxilla with minimal bone height below the sinus floor.

摘要

本文介绍了使用短的、表面多孔的根形牙种植体以及一种间接、同步、骨凿介导的上颌窦提升术,用于在窦底下方仅残留3毫米骨量时修复上颌后牙区。作为正在进行的一项使用Endopore种植体的前瞻性临床试验一部分的16例患者的结果显示,采用既定标准成功率达100%,种植体平均长度为6.9毫米,平均功能时间为11.1个月。这种治疗方法极大地简化了窦底下方骨高度极低的上颌后牙区的治疗管理。

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