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使用化学电子束光刻技术在硅片上进行金纳米颗粒图案化。

Gold nanoparticle patterning of silicon wafers using chemical e-beam lithography.

作者信息

Mendes Paula M, Jacke Susanne, Critchley Kevin, Plaza Jose, Chen Yu, Nikitin Kirill, Palmer Richard E, Preece Jon A, Evans Stephen D, Fitzmaurice Donald

机构信息

School of Chemistry, University of Birmingham, Edgbaston, Birmingham B15 2TT, United Kingdom.

出版信息

Langmuir. 2004 Apr 27;20(9):3766-8. doi: 10.1021/la049803g.

DOI:10.1021/la049803g
PMID:15875412
Abstract

This paper demonstrates a novel facile method for fabrication of patterned arrays of gold nanoparticles on Si/SiO2 by combining electron beam lithography and self-assembly techniques. Our strategy is to use direct-write electron beam patterning to convert nitro functionality in self-assembled monolayers of 3-(4-nitrophenoxy)-propyltrimethoxysilane to amino functionality, forming chemically well-defined surface architectures on the 100 nm scale. These nanopatterns are employed to guide the assembly of citrate-passivated gold nanoparticles according to their different affinities for amino and nitro groups. This kind of nanoparticle assembly offers an attractive new option for nanoparticle patterning a silicon surface, as relevant, for example, to biosensors, electronics, and optical devices.

摘要

本文展示了一种通过结合电子束光刻和自组装技术在Si/SiO₂上制备金纳米颗粒图案阵列的新颖简便方法。我们的策略是利用直写电子束图案化将3-(4-硝基苯氧基)-丙基三甲氧基硅烷自组装单分子层中的硝基官能团转化为氨基官能团,在100纳米尺度上形成化学定义明确的表面结构。这些纳米图案根据柠檬酸盐钝化的金纳米颗粒对氨基和硝基的不同亲和力来引导其组装。这种纳米颗粒组装为在硅表面进行纳米颗粒图案化提供了一个有吸引力的新选择,例如与生物传感器、电子学和光学器件相关的应用。

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