• 文献检索
  • 文档翻译
  • 深度研究
  • 学术资讯
  • Suppr Zotero 插件Zotero 插件
  • 邀请有礼
  • 套餐&价格
  • 历史记录
应用&插件
Suppr Zotero 插件Zotero 插件浏览器插件Mac 客户端Windows 客户端微信小程序
定价
高级版会员购买积分包购买API积分包
服务
文献检索文档翻译深度研究API 文档MCP 服务
关于我们
关于 Suppr公司介绍联系我们用户协议隐私条款
关注我们

Suppr 超能文献

核心技术专利:CN118964589B侵权必究
粤ICP备2023148730 号-1Suppr @ 2026

文献检索

告别复杂PubMed语法,用中文像聊天一样搜索,搜遍4000万医学文献。AI智能推荐,让科研检索更轻松。

立即免费搜索

文件翻译

保留排版,准确专业,支持PDF/Word/PPT等文件格式,支持 12+语言互译。

免费翻译文档

深度研究

AI帮你快速写综述,25分钟生成高质量综述,智能提取关键信息,辅助科研写作。

立即免费体验

通过Z衬度成像进行逐列成分映射。

Column-by-column compositional mapping by Z-contrast imaging.

作者信息

Molina S I, Sales D L, Galindo P L, Fuster D, González Y, Alén B, González L, Varela M, Pennycook S J

机构信息

Departamento de Ciencia de los Materiales e IM y QI, Facultad de Ciencias, Universidad de Cádiz, Puerto Real, Cádiz, Spain.

出版信息

Ultramicroscopy. 2009 Jan;109(2):172-6. doi: 10.1016/j.ultramic.2008.10.008. Epub 2008 Oct 31.

DOI:10.1016/j.ultramic.2008.10.008
PMID:19062188
Abstract

A phenomenological method is developed to determine the composition of materials, with atomic column resolution, by analysis of integrated intensities of aberration-corrected Z-contrast scanning transmission electron microscopy images. The method is exemplified for InAs(x)P(1-x) alloys using epitaxial thin films with calibrated compositions as standards. Using this approach we have determined the composition of the two-dimensional wetting layer formed between self-assembled InAs quantum wires on InP(001) substrates.

摘要

一种现象学方法被开发出来,通过分析像差校正的Z衬度扫描透射电子显微镜图像的积分强度,以原子列分辨率确定材料的成分。该方法以校准成分的外延薄膜作为标准,用于InAs(x)P(1-x)合金进行了示例。使用这种方法,我们确定了在InP(001)衬底上自组装InAs量子线之间形成的二维润湿层的成分。

相似文献

1
Column-by-column compositional mapping by Z-contrast imaging.通过Z衬度成像进行逐列成分映射。
Ultramicroscopy. 2009 Jan;109(2):172-6. doi: 10.1016/j.ultramic.2008.10.008. Epub 2008 Oct 31.
2
Morphological evolution of InAs/InP quantum wires through aberration-corrected scanning transmission electron microscopy.通过像差校正扫描透射电子显微镜观察 InAs/InP 量子线的形态演变。
Nanotechnology. 2010 Aug 13;21(32):325706. doi: 10.1088/0957-4484/21/32/325706. Epub 2010 Jul 21.
3
Calculation of integrated intensities in aberration-corrected Z-contrast images.像差校正Z衬度图像中积分强度的计算。
J Electron Microsc (Tokyo). 2011;60(1):29-33. doi: 10.1093/jmicro/dfq078. Epub 2010 Nov 24.
4
Determination of the strain generated in InAs/InP quantum wires: prediction of nucleation sites.InAs/InP量子线中产生的应变的测定:成核位点的预测。
Nanotechnology. 2006 Nov 28;17(22):5652-8. doi: 10.1088/0957-4484/17/22/020. Epub 2006 Oct 30.
5
Column ratio mapping: a processing technique for atomic resolution high-angle annular dark-field (HAADF) images.柱比映射:一种用于原子分辨率高角度环形暗场(HAADF)图像的处理技术。
Ultramicroscopy. 2008 Dec;109(1):61-9. doi: 10.1016/j.ultramic.2008.08.001. Epub 2008 Aug 12.
6
Application of two-dimensional crystallography and image processing to atomic resolution Z-contrast images.二维晶体学和图像处理在原子分辨率Z衬度图像中的应用。
J Electron Microsc (Tokyo). 2009 Jun;58(3):223-44. doi: 10.1093/jmicro/dfp007. Epub 2009 Mar 17.
7
Quantitative atomic resolution mapping using high-angle annular dark field scanning transmission electron microscopy.使用高角度环形暗场扫描透射电子显微镜进行定量原子分辨率映射。
Ultramicroscopy. 2009 Sep;109(10):1236-44. doi: 10.1016/j.ultramic.2009.05.010. Epub 2009 May 27.
8
Compositional analysis of mixed-cation-anion III-V semiconductor interfaces using phase retrieval high-resolution transmission electron microscopy.使用相位恢复高分辨率透射电子显微镜对混合阳离子-阴离子III-V族半导体界面进行成分分析。
J Microsc. 2008 Jun;230(Pt 3):372-81. doi: 10.1111/j.1365-2818.2008.01995.x.
9
A method to determine the strain and nucleation sites of stacked nano-objects.一种确定堆叠纳米物体应变和成核位点的方法。
J Nanosci Nanotechnol. 2008 Jul;8(7):3422-6. doi: 10.1166/jnn.2008.123.
10
Compositional analysis with atomic column spatial resolution by 5th-order aberration-corrected scanning transmission electron microscopy.通过五阶像差校正扫描透射电子显微镜实现原子柱空间分辨率的组成分析。
Microsc Microanal. 2011 Aug;17(4):578-81. doi: 10.1017/S1431927611000213. Epub 2011 May 27.

引用本文的文献

1
Quantitative Characterization by Transmission Electron Microscopy and Its Application to Interfacial Phenomena in Crystalline Materials.通过透射电子显微镜进行定量表征及其在晶体材料界面现象中的应用。
Materials (Basel). 2024 Jan 25;17(3):578. doi: 10.3390/ma17030578.
2
STEM Tools for Semiconductor Characterization: Beyond High-Resolution Imaging.用于半导体表征的STEM工具:超越高分辨率成像
Nanomaterials (Basel). 2022 Jan 21;12(3):337. doi: 10.3390/nano12030337.
3
Deep Learning-Assisted Quantification of Atomic Dopants and Defects in 2D Materials.
深度学习辅助二维材料中原子掺杂剂和缺陷的量化
Adv Sci (Weinh). 2021 Aug;8(16):e2101099. doi: 10.1002/advs.202101099. Epub 2021 Jun 3.
4
Analysis of Bi Distribution in Epitaxial GaAsBi by Aberration-Corrected HAADF-STEM.利用像差校正高角度环形暗场扫描透射电子显微镜分析外延GaAsBi中的铋分布
Nanoscale Res Lett. 2018 Apr 25;13(1):125. doi: 10.1186/s11671-018-2530-5.
5
Analysis of electron beam damage of exfoliated MoS₂ sheets and quantitative HAADF-STEM imaging.剥离的MoS₂薄片的电子束损伤分析及定量高角度环形暗场扫描透射电子显微镜成像
Ultramicroscopy. 2014 Nov;146:33-8. doi: 10.1016/j.ultramic.2014.05.004. Epub 2014 Jun 2.
6
Impact of N on the atomic-scale Sb distribution in quaternary GaAsSbN-capped InAs quantum dots.N 对四元 GaAsSbN 盖帽的 InAs 量子点中 Sb 原子尺度分布的影响。
Nanoscale Res Lett. 2012 Nov 27;7(1):653. doi: 10.1186/1556-276X-7-653.
7
Identification of active atomic defects in a monolayered tungsten disulphide nanoribbon.在单层二硫化钨纳米带中鉴定活性原子缺陷。
Nat Commun. 2011;2:213. doi: 10.1038/ncomms1224.