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通过改进的纳米球光刻技术制备的纳米孔阵列传感器的分析与物理优化

Analytical and physical optimization of nanohole-array sensors prepared by modified nanosphere lithography.

作者信息

Murray-Methot Marie-Pier, Menegazzo Nicola, Masson Jean-Francois

机构信息

Departement de Chimie, Université de Montréal, CP 6128 Succ Centre-Ville, Montréal, QC, Canada.

出版信息

Analyst. 2008 Dec;133(12):1714-21. doi: 10.1039/b808820a. Epub 2008 Sep 4.

DOI:10.1039/b808820a
PMID:19082074
Abstract

The analytical and physical properties are reported for nanohole arrays prepared with glancing angle deposition (GLAD) or plasma treatment of a nanosphere lithography (NSL) mask prior to the deposition of a thin Au film. The nanohole arrays obtained with a 450 nm nanospheres mask are characterized using atomic force microscopy (AFM) to determine the depth and the width of the nanoholes, and the periodicity of the nanohole arrays. The analytical properties are reported in terms of the surface plasmon (SP) excitation wavelength (500 nm to 1000 nm), sensitivity to refractive index (27 nm RIU(-1) to 487 nm RIU(-1)), sensitivity to monolayer formation (shift of the SP band by approx. 1 nm), and refractive index resolution (10(-4) RIU). These simple techniques produce well-ordered nanohole arrays with tunable analytical and physical properties for the development of biosensors.

摘要

报道了通过掠角沉积(GLAD)或在沉积薄金膜之前对纳米球光刻(NSL)掩膜进行等离子体处理制备的纳米孔阵列的分析和物理性质。使用原子力显微镜(AFM)对用450 nm纳米球掩膜获得的纳米孔阵列进行表征,以确定纳米孔的深度和宽度以及纳米孔阵列的周期性。分析性质通过表面等离子体(SP)激发波长(500 nm至1000 nm)、对折射率的灵敏度(27 nm RIU⁻¹至487 nm RIU⁻¹)、对单层形成的灵敏度(SP带移动约1 nm)和折射率分辨率(10⁻⁴ RIU)来报道。这些简单技术可产生具有可调分析和物理性质的有序纳米孔阵列,用于生物传感器的开发。

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