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有机金属框架中的光不稳定保护基团:防止互贯和掩蔽官能团。

Photolabile protecting groups in metal-organic frameworks: preventing interpenetration and masking functional groups.

机构信息

MacDiarmid Institute for Advanced Materials and Nanotechnology, Institute of Fundamental Sciences, Palmerston North, New Zealand.

出版信息

Chem Commun (Camb). 2012 Feb 1;48(10):1574-6. doi: 10.1039/c1cc12884a. Epub 2011 Jul 22.

DOI:10.1039/c1cc12884a
PMID:21779545
Abstract

Photolabile groups can be incorporated into metal-organic frameworks (MOFs) and then quantitatively cleaved following MOF formation. Here, a 2-nitrobenzyl ether prevents lattice interpenetration (catenation) in a cubic MOF derived from zinc(II). Subsequent photolysis unmasks a hydroxyl group, and produces an open MOF that cannot be synthesized directly.

摘要

光不稳定基团可以被整合到金属有机骨架(MOFs)中,然后在 MOF 形成后进行定量裂解。在这里,2-硝基苄基醚可以防止由锌(II)衍生的立方 MOF 的晶格贯穿(交织)。随后的光解会暴露出一个羟基,并产生一个无法直接合成的开放 MOF。

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