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Surface crystallography of YSi2-x films epitaxially grown on Si(111): An x-ray photoelectron diffraction study.

作者信息

Baptist R, Ferrer S, Grenet G, Poon HC

出版信息

Phys Rev Lett. 1990 Jan 15;64(3):311-314. doi: 10.1103/PhysRevLett.64.311.

DOI:10.1103/PhysRevLett.64.311
PMID:10041948
Abstract
摘要

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Surface crystallography of YSi2-x films epitaxially grown on Si(111): An x-ray photoelectron diffraction study.在Si(111)上外延生长的YSi₂₋ₓ薄膜的表面晶体学：一项X射线光电子衍射研究。
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