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三氟化氯中痕量杂质的气相色谱分析

Gas chromatographic analysis of trace impurities in chlorine trifluoride.

作者信息

Laurens J B, Swinley J M, de Coning J P

机构信息

Department of Chemical Pathology, University of Pretoria, South Africa.

出版信息

J Chromatogr A. 2000 Mar 24;873(2):229-35. doi: 10.1016/s0021-9673(99)01294-7.

DOI:10.1016/s0021-9673(99)01294-7
PMID:10757300
Abstract

The gas chromatographic determination of trace gaseous impurities in highly reactive fluorinated gaseous matrices presents unique requirements to both equipment and techniques. Especially problematic are the gases normally present in ambient air namely oxygen and nitrogen. Analysing these gases at the low microl/l (ppm) level requires special equipment and this publication describes a custom-designed system utilising backflush column switching to protect the columns and detectors. A thermal conductivity detector with nickel filaments was used to determine ppm levels of impurities in ClF3.

摘要

气相色谱法测定高反应性氟化气体基质中的痕量气态杂质,对设备和技术都有独特要求。特别成问题的是环境空气中通常存在的气体,即氧气和氮气。在低微升/升(ppm)水平分析这些气体需要特殊设备,本出版物描述了一种利用反吹柱切换来保护色谱柱和检测器的定制系统。使用带有镍丝的热导检测器来测定ClF3中杂质的ppm水平。

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