Suppr超能文献

等离子体定向组装和组织:自上而下技术的自下而上纳米图案化。

Plasma directed assembly and organization: bottom-up nanopatterning using top-down technology.

机构信息

Institute of Microelectronics, NCSR Demokritos, Aghia Paraskevi, Attiki 15310, Greece.

出版信息

Nanotechnology. 2010 Feb 26;21(8):85302. doi: 10.1088/0957-4484/21/8/085302. Epub 2010 Jan 25.

Abstract

Fabrication of periodic nanodot or nanocolumn arrays on surfaces is performed by top-down lithographic procedures or bottom-up self-assembly methods, which both make use of plasma etching to transfer the periodic pattern. Could plasma etching alone act as an assembly--organization method to create the pattern and then transfer it to the substrate? We present data that support this idea and propose a mechanism of periodicity formation where etching and simultaneous deposition take place.

摘要

在表面上制造周期性纳米点或纳米柱阵列,可以采用自上而下的光刻工艺或自下而上的自组装方法,这两种方法都利用等离子体刻蚀来转移周期性图案。等离子体刻蚀本身是否可以作为一种组装-组织方法来创建图案,然后将其转移到基底上?我们提出了一些数据来支持这个想法,并提出了一种在刻蚀和同时沉积发生的情况下形成周期性的机制。

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