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磷掺杂的锗的 n 型掺杂:在原子水平上解决早期阶段。

n-type doping of germanium from phosphine: early stages resolved at the atomic level.

机构信息

School of Physics, University of New South Wales, Sydney, Australia.

出版信息

Phys Rev Lett. 2012 Aug 17;109(7):076101. doi: 10.1103/PhysRevLett.109.076101. Epub 2012 Aug 13.

DOI:10.1103/PhysRevLett.109.076101
PMID:23006385
Abstract

To understand the atomistic doping process of phosphorus in germanium, we present a combined scanning tunneling microscopy, temperature programed desorption, and density functional theory study of the reactions of phosphine with the Ge(001) surface. Combining experimental and theoretical results, we demonstrate that PH(2) + H with a footprint of one Ge dimer is the only product of room temperature chemisorption. Further dissociation requires thermal activation. At saturation coverage, PH(2) + H species self-assemble into ordered patterns leading to phosphorus coverages of up to 0.5 monolayers.

摘要

为了理解磷在锗中的原子级掺杂过程,我们进行了一项结合扫描隧道显微镜、程序升温脱附以及密度泛函理论的研究,以探究磷化氢与锗(001)表面的反应。综合实验和理论结果,我们证明了室温下化学吸附的唯一产物是具有一个锗二聚体足迹的 PH(2) + H。进一步的离解需要热激活。在饱和覆盖度下,PH(2) + H 物种自组装成有序图案,导致磷的覆盖度达到 0.5 单层。

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