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在 80-180°C 温度范围内,通过水相无碳金属氧化物前体制备工艺加工而成的高性能 ZnO 晶体管。

High-performance ZnO transistors processed via an aqueous carbon-free metal oxide precursor route at temperatures between 80-180 °C.

机构信息

Department of Physics and Centre for Plastic Electronics, Blackett Laboratory, Imperial College London, London SW7 2AZ, United Kingdom.

出版信息

Adv Mater. 2013 Aug 21;25(31):4340-6. doi: 10.1002/adma.201301622. Epub 2013 Jun 25.

Abstract

An aqueous and carbon-free metal-oxide precursor route is used in combination with a UV irradiation-assisted low-temperature conversion method to fabricate low-voltage ZnO transistors with electron mobilities exceeding 10 cm(2) /Vs at temperatures <180 °C. Because of its low temperature requirements the method allows processing of high-performance transistors onto temperature sensitive substrates such as plastic.

摘要

采用水相无碳金属氧化物前躯体路线,并结合紫外光辐照辅助低温转化方法,在<180°C的温度下制备出电子迁移率超过 10 cm(2) /Vs 的低压 ZnO 晶体管。由于其低温要求,该方法允许在温度敏感的衬底(如塑料)上进行高性能晶体管的加工。

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