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用于多孔硅表面改性的快速无金属硅氢化反应化学

Rapid, metal-free hydrosilanisation chemistry for porous silicon surface modification.

作者信息

Sweetman M J, McInnes S J P, Vasani R B, Guinan T, Blencowe A, Voelcker N H

机构信息

ARC Centre of Excellence in Convergent Bio-Nano Science and Technology, Mawson Institute, University of South Australia, Australia.

出版信息

Chem Commun (Camb). 2015 Jul 7;51(53):10640-3. doi: 10.1039/c5cc02689j. Epub 2015 Jun 4.

DOI:10.1039/c5cc02689j
PMID:26040947
Abstract

Here, we report a novel surface modification for porous silicon (pSi). Hydroxyl-terminated pSi surfaces are modified with a hydrosilane via Si-H activation using the Lewis acid catalyst tris(pentafluorophenyl) borane. This surface reaction is fast and efficient at room temperature, and leads to a surface stabilised against hydrolytic attack in aqueous media. The resulting surface shows promise as a substrate for surface-assisted laser desorption/ionisation mass spectrometry.

摘要

在此,我们报道了一种用于多孔硅(pSi)的新型表面改性方法。通过使用路易斯酸催化剂三(五氟苯基)硼烷,经硅氢键活化,用硅烷对羟基封端的pSi表面进行改性。这种表面反应在室温下快速且高效,能使表面在水性介质中稳定抵抗水解侵蚀。所得表面有望作为表面辅助激光解吸/电离质谱的基底。

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