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Mechanism of reflection high-energy electron-diffraction intensity oscillations during molecular-beam epitaxy on a Si(001) surface.

作者信息

Mitsuishi K, Hashimoto I, Sakamoto K, Sakamoto T, Watanabe K

出版信息

Phys Rev B Condens Matter. 1995 Oct 15;52(15):10748-10751. doi: 10.1103/physrevb.52.10748.

DOI:10.1103/physrevb.52.10748
PMID:9980160
Abstract
摘要

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Mechanism of reflection high-energy electron-diffraction intensity oscillations during molecular-beam epitaxy on a Si(001) surface.硅（001）表面分子束外延过程中反射高能电子衍射强度振荡的机制
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