Suppr超能文献

硅纳米线热导率的温度依赖性。

Temperature dependence of the thermal conductivity of thin silicon nanowires.

机构信息

Department of Chemistry, University of California Davis, One Shields Avenue, avis, California 95616, USA.

出版信息

Nano Lett. 2010 Mar 10;10(3):847-51. doi: 10.1021/nl903268y.

Abstract

We compute the lattice thermal conductivity (kappa) of silicon nanowires as a function of temperature by molecular dynamics simulations. In wires with amorphous surfaces kappa may reach values close to that of amorphous silicon and is nearly constant between 200 and 600 K; this behavior is determined by the presence of a majority of nonpropagating vibrational modes. We develop a parameter-free model that accounts for the temperature dependence observed in our simulations and provides a qualitative explanation of recent experiments.

摘要

我们通过分子动力学模拟计算了硅纳米线的晶格热导率(kappa)随温度的变化。在具有非晶表面的线中,kappa 可能达到接近非晶硅的值,并且在 200 到 600 K 之间几乎保持不变;这种行为是由大多数非传播振动模式的存在决定的。我们开发了一个无参数模型,该模型解释了我们模拟中观察到的温度依赖性,并对最近的实验提供了定性解释。

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