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Photoallergic contact dermatitis. Due to halogenated salicylanilides and related compounds.

作者信息

Harber L C, Harris H, Baer R L

出版信息

Arch Dermatol. 1966 Sep;94(3):255-62. doi: 10.1001/archderm.94.3.255.

DOI:10.1001/archderm.94.3.255
PMID:4951805
Abstract
摘要

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Photoallergic contact dermatitis. Due to halogenated salicylanilides and related compounds.光变应性接触性皮炎。由卤化水杨酰苯胺及相关化合物引起。
Arch Dermatol. 1966 Sep;94(3):255-62. doi: 10.1001/archderm.94.3.255.
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